Archivo:Leiterbahn ausfallort elektromigration.jpg
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Leiterbahn_ausfallort_elektromigration.jpg (512 × 512 píxeles; tamaño de archivo: 65 KB; tipo MIME: image/jpeg)
| Descripción |
Deutsch: Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Plasmaätzen (RIE) und w:de:Fluorwasserstoffsäure (HF) entfernt. Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das bestmögliche Resultat zu erlangen.
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| Fuente | Mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen |
| Autor | Patrick-Emil Zörner |
| Otras versiones | keine bekannt! |
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- Image contributor(s): Paddy
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| Fecha y hora | Miniatura | Dimensiones | Usuario | Comentario | |
|---|---|---|---|---|---|
| actual | 18:24 6 mar 2007 | | 512 × 512 (65 KB) | CommonismNow | {{Information| |Description=Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop (REM). Die Passivierung wurde vorher durch w:de:Reactive Ion Etching (RIE) und [[w:de:Fluorwasserst |
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