Archivo:Reactive Ion Etcher.JPG
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Resumen
| Descripción |
English: A Plasma-Therm Reactive Ion Etching tool (790 Series) in the labs of University of Alabama in Huntsville. |
| Fecha | |
| Fuente | Trabajo propio |
| Autor | AlabamaUSA |
Licencia
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| Fecha y hora | Miniatura | Dimensiones | Usuario | Comentario | |
|---|---|---|---|---|---|
| actual | 18:56 26 feb 2011 | | 4000 × 3000 (4,01 MB) | AlabamaUSA | {{Information |Description ={{en|1=A Plasma Therm Reactive Ion Etching tool in the labs of University of Alabama in Huntsville. }} |Source ={{own}} |Author =AlabamaUSA |Date =February 2011 |Permission |
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